今天高亮顯示屏廠家小編要和大家來(lái)分享的是關(guān)于TFT顯示屏的技術(shù)特點(diǎn)，讓大家更全面的來(lái)了解TFT顯示屏。

TFT技術(shù)是二十世紀(jì)九十年代發(fā)展起來(lái)的，采用新材料和新工藝的大規(guī)模半導(dǎo)體全集成電路制造技術(shù)，是液晶(LC)、無(wú)機(jī)和有機(jī)薄膜電致發(fā)光(EL和OEL)平板顯示器的基礎(chǔ)。TFT顯示屏是在玻璃或塑料基板等非單晶片上(當(dāng)然也可以在晶片上)通過(guò)濺射、化學(xué)沉積工藝形成制造電路必需的各種膜，通過(guò)對(duì)膜的加工制作大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路(LSIC)。采用非單晶基板可以大幅度地降低成本，是傳統(tǒng)大規(guī)模集成電路向大面積、多功能、低成本方向的延伸。在大面積玻璃或塑料基板上制造控制像元(LC或OLED)開關(guān)性能的TFT顯示屏比在硅片上制造大規(guī)模IC的技術(shù)難度更大。對(duì)生產(chǎn)環(huán)境的要求(凈化度為100級(jí))，對(duì)原材料純度的要求(電子特氣的純度為99.999985%)，對(duì)生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)技術(shù)的要求都超過(guò)半導(dǎo)體大規(guī)模集成，是現(xiàn)代大生產(chǎn)的頂尖技術(shù)。其主要特點(diǎn)有：

大面積

九十年代初第一代大面積玻璃基板(300mm×400mm)TFT-LCD生產(chǎn)線投產(chǎn)，到2000年上半年玻璃基板的面積已經(jīng)擴(kuò)大到了680mm×880mm)，最近950mm×1200mm的玻璃基板也將投入運(yùn)行。原則上講沒(méi)有面積的限制。

高集成度

用于液晶投影的1.3英寸TFT芯片的分辨率為XGA含有百萬(wàn)個(gè)像素。分辨率為SXGA(1280×1024)的16.1英寸的TFT陣列非晶體硅的膜厚只有50nm，以及TAB ON GLASS和SYSTEM ON GLASS技術(shù)，其IC的集成度，對(duì)設(shè)備和供應(yīng)技術(shù)的要求，技術(shù)難度都超過(guò)傳統(tǒng)的LSI。

功能強(qiáng)大

TFT顯示屏最早作為矩陣選址電路改善了液晶的光閥特性。對(duì)于高分辨率顯示器，通過(guò)0-6V范圍的電壓調(diào)節(jié)(其典型值0.2到4V)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)象元的精確控制，從而使LCD顯示屏實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的高分辨率顯示成為可能。TFT-LCD是人類歷史上第一種在顯示質(zhì)量上超過(guò)CRT的平板顯示器?，F(xiàn)在人們開始把驅(qū)動(dòng)IC集成到玻璃基板上，整個(gè)TFT顯示屏的功能將更強(qiáng)大，這是傳統(tǒng)的大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路所無(wú)法比擬的。

低成本

玻璃基板和塑料基板從根本上解決了大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路的成本問(wèn)題，為大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路的應(yīng)用開拓了廣闊的應(yīng)用空間。

工藝靈活

除了采用濺射、CVD(化學(xué)氣相沉積)MCVD(分子化學(xué)氣相沉積)等傳統(tǒng)工藝成膜以外，激光退火技術(shù)也開始應(yīng)用，既可以制作非晶膜、多晶膜，也可以制造單晶膜。不僅可以制作硅膜，也可以制作其他的Ⅱ-Ⅵ族和Ⅲ-Ⅴ族半導(dǎo)體薄膜。

應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

以TFT技術(shù)為基礎(chǔ)的液晶平板顯示器是信息社會(huì)的支柱產(chǎn)業(yè)，也技術(shù)可應(yīng)用到正在迅速成長(zhǎng)中的薄膜晶體管有機(jī)電致發(fā)光(TFT-OLED)平板顯示器也在迅速的成長(zhǎng)中。

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